دراسة الخصائص التحسسية لأفلام رقيقة من أكسيد التنغستن تجاه بخار البروبانول

الملخص

حُضّرت ثلاثة أفلام رقيقة من أكسيد التنغستين  (WO3) باستخدام تقنية الترسيب الفيزيائي للبخار  (Physical Vapor Deposition, PVD)،   وذلك باستعمال مسحوق أكسيد التنغستين بوصفه مادة المصدر، وبسماكات بلغت (998.7، 1620، 2240) نانومتر، حيث رُسّبت الأفلام على ركائز زجاجية ضمن شروط محددة من الضغط ودرجة الحرارة. دُرست خصائص التيار–الجهد (I–V) لهذه الأفلام، كما حُسبت حساسيتها تجاه بخار البروبانول بتركيز 100 جزء في المليون(100ppm)، ضمن مجال من درجات الحرارة تراوح بين 50 و350 درجة مئوية. وأُجريت مقارنة بين الأفلام عند درجة حرارة تشغيل بلغت 250 درجة مئوية ، وأظهرت النتائج أن الفلم ذي السماكة 1620 نانومتر سجل أعلى حساسية وأكبر استجابة تجاه بخار البروبانول. كما قورنت حساسية الفلم الرقيق ذي السماكة 1620 نانومتر، المحضّر باستخدام تقنية التبخير الحراري، مع حساسية فلم سميك محضّر بطريقة الطلاء الكيميائي، بلغ حجم حبيباته 72.19 نانومتر، تجاه بخار البروبانول. وأظهرت المقارنة أن الفلم السميك المحضّر بطريقة الطلاء الكيميائي، وبحجم حبيبي مقداره 72.19 نانومتر، سجل حساسية أعلى مقارنةً بالفلم الرقيق المحضّر بالتبخير الحراري.